ICP增强磁控溅射沉积ZrN薄膜的耐腐蚀性能研究 - 2008’材料腐蚀与控制学术研讨会.pdf

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2026-1-12 07:37 | 查看全部 阅读模式

会议论文《ICP增强磁控溅射沉积ZrN薄膜的耐腐蚀性能研究》探讨了采用等离子体增强磁控溅射技术制备ZrN薄膜的工艺及其在腐蚀环境中的表现。研究通过实验分析了不同工艺参数对薄膜结构和耐腐蚀性的影响,结果表明,该方法制备的ZrN薄膜具有良好的致密性和化学稳定性,展现出优异的抗腐蚀能力,为金属防护涂层提供了新的思路。

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ICP增强磁控溅射沉积ZrN薄膜的耐腐蚀性能研究 - 2008’材料腐蚀与控制学术研讨会
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