关于蓝光芯片透明导电薄膜ITO退火工艺的研究 - 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议.pdf

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2026-1-12 09:51 | 查看全部阅读模式

会议论文《关于蓝光芯片透明导电薄膜ITO退火工艺的研究》发表于第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议。该研究针对ITO透明导电薄膜在蓝光芯片中的应用，探讨了不同退火工艺对薄膜性能的影响，旨在提高其导电性与透光率，为高性能光电器件的开发提供理论支持和技术参考。

文档为pdf格式，0.36MB，总共3页。