化学腐蚀和机械抛光方法改善硅片崩边的研究与应用 - 第十届中国太阳能光伏会议.pdf

9 0
2026-1-12 10:18 | 查看全部 阅读模式

会议论文《化学腐蚀和机械抛光方法改善硅片崩边的研究与应用》探讨了通过化学腐蚀与机械抛光技术减少硅片在加工过程中的崩边现象。该研究针对太阳能光伏产业中硅片边缘缺陷问题,提出有效的改进方案,提高了硅片质量和切割效率,对提升光伏组件性能具有重要意义。

文档为pdf格式,0.63MB,总共10页。

化学腐蚀和机械抛光方法改善硅片崩边的研究与应用 - 第十届中国太阳能光伏会议
文件大小:
645.12 KB
高速下载
2026 资料下载 联系邮件:1991591830#qq.com 浙ICP备2024084428号-1