会议论文《低温常压等离子体技术于高分子材料表面进行类二氧化硅之硬质薄膜沉积》发表于第五届全国化学工程与生物化工年会。该研究探讨了利用低温常压等离子体技术在高分子材料表面沉积类二氧化硅硬质薄膜的可行性与工艺参数。通过优化放电条件与气体配比，实现了薄膜的均匀覆盖与良好附着力，为高分子材料表面改性提供了新思路。
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