2008年全国材料研讨会——材料表面与界面分会的会议论文《中频脉冲磁控溅射沉积氮化铝薄膜及性能研究》，探讨了采用中频脉冲磁控溅射技术制备氮化铝薄膜的方法。研究分析了工艺参数对薄膜结构和性能的影响，包括硬度、致密度及热导率等。该论文为氮化铝薄膜在电子器件中的应用提供了理论依据和技术支持。
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