会议论文《4H-SiC同质外延层的表征》发表于第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议。该文系统研究了4H-SiC同质外延层的结构和性能,通过多种表征技术分析其晶体质量与缺陷分布,为提升SiC器件性能提供了重要依据。
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