会议论文《低介电常数纯硅数分子筛薄膜的制备与表征》在第七届中国国际纳米科技(武汉)研讨会中发表。该研究探讨了低介电常数纯硅分子筛薄膜的制备方法及其性能表征，旨在为微电子器件提供新型绝缘材料。通过优化合成工艺，实现了对薄膜结构和介电性能的有效调控，具有重要的应用前景。
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