1.3μm垂直腔面发射激光器中的电流限制孔径工艺研究 - 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议.pdf

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2026-1-12 07:00 | 查看全部阅读模式

会议论文《1.3μm垂直腔面发射激光器中的电流限制孔径工艺研究》探讨了在1.3μm波段垂直腔面发射激光器中，电流限制孔径的制备工艺对器件性能的影响。研究通过优化光刻和刻蚀工艺，实现了更精确的孔径控制，从而提高了激光器的阈值电流和输出功率。该成果为高性能光通信器件的开发提供了重要参考。

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