会议论文《氮化镓外延层电子辐照损伤光致发光分析》探讨了电子辐照对氮化镓外延层的损伤效应，通过光致发光技术进行分析。研究揭示了辐照后材料的光学性质变化，为评估器件可靠性提供了重要依据。该成果对于提升氮化镓基半导体器件的性能和稳定性具有重要意义。
文档为pdf格式，0.13MB，总共3页。
举报
