利用CV-MOS工艺研制SOI基的光子器件 - 第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议.pdf

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2026-1-11 13:39 | 查看全部 阅读模式

会议论文《利用CV-MOS工艺研制SOI基的光子器件》介绍了基于CMOS兼容的SOI技术开发光子器件的研究成果。该研究利用CV-MOS工艺,实现了高性能的光子集成器件,为未来硅基光电子学的发展提供了新思路。论文详细阐述了器件结构设计、制备工艺及性能测试,展示了SOI技术在光子集成领域的应用潜力。

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利用CV-MOS工艺研制SOI基的光子器件 - 第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议
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