会议论文《Ga掺杂对直流反应磁控溅射ZnO薄膜性能的影响》探讨了Ga元素掺杂对ZnO薄膜结构和光电性能的影响。通过直流反应磁控溅射法制备不同Ga含量的ZnO薄膜，并对其表面形貌、晶体结构及电学性能进行表征。研究结果表明，适量Ga掺杂可改善薄膜的导电性和光学透明性，为制备高性能透明导电薄膜提供了理论依据。
文档为pdf格式，0.28MB，总共5页。
举报
