提高T_R组件LTCC大面积焊接钎透率的先进工艺 - 2011年机械电子学学术会议.pdf

8 0
2026-1-10 10:22 | 查看全部 阅读模式

会议论文《提高T_R组件LTCC大面积焊接钎透率的先进工艺》发表于2011年机械电子学学术会议,主要探讨了在LTCC(低温共烧陶瓷)技术中提升T_R组件焊接质量的方法。文章提出了一系列优化工艺参数的措施,有效提高了大面积焊接的钎透率,增强了器件的可靠性与性能,对微电子封装领域具有重要参考价值。

文档为pdf格式,1.21MB,总共5页。

提高T_R组件LTCC大面积焊接钎透率的先进工艺 - 2011年机械电子学学术会议
文件大小:
1.21 MB
高速下载
2026 资料下载 联系邮件:1991591830#qq.com 浙ICP备2024084428号-1