等离子体刻蚀形成氮化铝纳米锥的场发射特性 - 中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会.pdf

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2026-1-11 21:05 | 查看全部 阅读模式

会议论文《等离子体刻蚀形成氮化铝纳米锥的场发射特性》探讨了通过等离子体刻蚀技术制备氮化铝纳米锥结构,并研究其场发射性能。该研究为新型电子器件提供了潜在的材料基础,具有重要的应用价值。论文在2023年中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会上发表,展示了先进纳米材料在真空电子领域的最新进展。

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等离子体刻蚀形成氮化铝纳米锥的场发射特性 - 中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会
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