会议论文《磁控溅射铪薄膜的工艺研究》探讨了采用磁控溅射技术制备铪薄膜的工艺参数及其影响因素。研究分析了沉积速率、基底温度、气体压力等对薄膜性能的影响，旨在优化铪薄膜的制备工艺，提高其在微波器件中的应用性能。该论文为军用微波管的材料制备提供了理论支持和技术参考。
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