顶层钪钨阴极制造工艺和发射性能的研究 - 中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会.pdf

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2026-1-11 22:38 | 查看全部 阅读模式

会议论文《顶层钪钨阴极制造工艺和发射性能的研究》探讨了钪钨阴极的制备方法及其在真空电子器件中的应用。研究通过优化镀层工艺,提高了阴极的电子发射性能,增强了其在高温和高电流密度下的稳定性。该成果对提升微波管等电子器件的性能具有重要意义。

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顶层钪钨阴极制造工艺和发射性能的研究 - 中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会
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