该会议论文探讨了硅靶掺铝的磁控溅射镀膜工艺控制问题，针对2011年中国玻璃行业年会暨技术研讨会的需求进行研究。文章分析了不同掺杂比例对薄膜性能的影响，提出了优化的工艺参数和控制方法，以提高镀膜质量和效率。研究成果对提升玻璃行业的镀膜技术水平具有重要参考价值。
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