会议论文《射频磁控溅射制备a-Si_H薄膜的研究》探讨了采用射频磁控溅射技术制备非晶硅氢薄膜的工艺与性能。研究分析了不同沉积参数对薄膜结构和光电特性的影响，为优化薄膜质量提供了实验依据。该成果对于提高太阳能电池和薄膜晶体管等器件的性能具有重要意义。
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