会议论文《多晶RIE制绒工艺与高方阻工艺结合的应用前景与产业化分析》探讨了将反应离子刻蚀（RIE）制绒技术与高方阻工艺相结合在多晶硅太阳电池中的应用。文章分析了该技术组合在提升电池效率、降低生产成本方面的潜力，并对其实现产业化面临的挑战与前景进行了深入研究，为光伏产业的技术升级提供了参考依据。
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