应用于DRAM的高性能钛酸锶钡薄膜的制备研究 - 2010年全国半导体器件技术研讨会.pdf

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2026-1-11 03:41 | 查看全部 阅读模式

2010年全国半导体器件技术研讨会的会议论文《应用于DRAM的高性能钛酸锶钡薄膜的制备研究》探讨了钛酸锶钡(BST)薄膜在动态随机存取存储器(DRAM)中的应用。该研究通过优化制备工艺,提高了BST薄膜的介电性能和稳定性,为高密度、低功耗的DRAM器件提供了新的材料解决方案。

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应用于DRAM的高性能钛酸锶钡薄膜的制备研究 - 2010年全国半导体器件技术研讨会
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