会议论文《射频磁控溅射SiNX薄膜的制备及其绝缘性能研究》发表于第十二届全国固体薄膜会议。该文介绍了采用射频磁控溅射技术制备氮化硅薄膜的过程，并对其绝缘性能进行了系统研究。通过调整工艺参数，优化了薄膜的结构与性能，为半导体和微电子器件中的绝缘层应用提供了理论依据和技术支持。
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