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Al掺杂ZnO薄膜的射频磁控溅射工艺与光电性能研究 - 第七届中国国际纳米科技(武汉)研讨会.pdf

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2026-1-12 07:16 | 查看全部阅读模式

会议论文《Al掺杂ZnO薄膜的射频磁控溅射工艺与光电性能研究》探讨了通过射频磁控溅射法制备Al掺杂ZnO薄膜的工艺参数及其对薄膜光电性能的影响。研究结果表明，适量Al掺杂可有效改善ZnO薄膜的导电性和透明性，为制备高性能透明导电薄膜提供了理论依据和技术支持。

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Al掺杂ZnO薄膜的射频磁控溅射工艺与光电性能研究 - 第七届中国国际纳米科技(武汉)研讨会.pdf

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磁控溅射, 武汉, 掺杂, 中国国际, 射频

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