会议论文《PIII-D方法合成氮掺杂碳基薄膜的表面特性》探讨了采用等离子体增强化学气相沉积（PIII-D）技术制备氮掺杂碳基薄膜的表面性能。研究分析了薄膜的表面形貌、成分分布及化学键结构，表明氮元素的引入有效改善了薄膜的物理化学性质，提升了其在机械和电子领域的应用潜力。
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