该会议论文研究了PⅢ-D合成氮掺杂碳基薄膜的表面特性。通过实验分析了不同工艺参数对薄膜表面形貌、化学组成及性能的影响。结果表明，氮元素的引入有效改善了薄膜的导电性和硬度，同时对表面粗糙度产生一定影响。该研究为氮掺杂碳基薄膜在电子和机械领域的应用提供了理论依据和技术支持。
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