会议论文《重掺砷硅单晶中痕量磷杂质的SIMS检测》探讨了利用二次离子质谱（SIMS）技术对重掺砷硅单晶中微量磷杂质进行检测的方法。该研究针对半导体材料中杂质控制的重要性，提出了有效的检测方案，为提高硅单晶纯度和性能提供了技术支持。文章在第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议上发表，具有重要的学术和应用价值。
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