会议论文《等离子体刻蚀工艺的光学干涉法终点检测》发表于第15届全国机械设计年会，探讨了利用光学干涉技术实现刻蚀过程终点的精确检测。该方法通过分析反射光的干涉条纹变化，实时判断刻蚀是否完成，提高了工艺控制的精度和效率。研究对半导体制造和微电子加工领域具有重要参考价值。
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