会议论文《采用直流脉冲等离子体化学气相沉积制备的含氢非晶碳膜的应力释放行为》探讨了通过直流脉冲等离子体化学气相沉积技术制备的含氢非晶碳膜在生长过程中的应力释放机制。研究分析了薄膜结构与应力之间的关系，揭示了氢含量对膜层内应力的影响，为优化薄膜性能提供了理论依据。
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