会议论文《铁电薄膜反应离子刻蚀的研究》发表于2009年四川省电子学会半导体与集成技术专委会学术年会。该文探讨了铁电薄膜在反应离子刻蚀过程中的特性与工艺优化，分析了刻蚀速率、选择比及表面形貌等关键参数，为铁电材料在微电子器件中的应用提供了理论支持和技术参考。
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