电感耦合等离子体原子发射光谱法测定钴铌锆合金中的痕量硅 - 第十五届冶金及材料分析测试学术报告会(CCATM2010).pdf

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2026-1-11 05:36 | 查看全部 阅读模式

会议论文《电感耦合等离子体原子发射光谱法测定钴铌锆合金中的痕量硅》发表于第十五届冶金及材料分析测试学术报告会(CCATM2010)。该文介绍了利用电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)对钴铌锆合金中痕量硅元素进行准确测定的方法。通过优化实验条件,提高了检测灵敏度和准确性,为高纯金属材料的分析提供了有效手段。

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电感耦合等离子体原子发射光谱法测定钴铌锆合金中的痕量硅 - 第十五届冶金及材料分析测试学术报告会(CCATM2010)
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