会议论文《ITO高阻薄膜的制备及光电特性研究》探讨了高阻ITO薄膜的制备工艺及其光电性能。通过磁控溅射技术制备薄膜，并对其电阻率、透光率等参数进行测试分析。研究结果表明，优化工艺参数可有效提高薄膜的电阻率，同时保持良好的光学透明性，为高性能透明导电材料的应用提供了理论依据和技术支持。
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