会议论文《氢化纳米硅薄膜的椭偏表征》发表于第七届中国功能材料及其应用学术会议。该文通过椭偏技术对氢化纳米硅薄膜的光学特性进行了系统研究，分析了其折射率和厚度等关键参数。研究结果为纳米硅材料在光电子器件中的应用提供了重要参考。
文档为pdf格式，0.23MB，总共4页。
举报
