会议论文《氮化硅薄膜热处理前后表面组成和折射率 - 2010全国玻璃技术交流研讨会》探讨了氮化硅薄膜在热处理前后的表面化学组成及折射率变化。研究采用XPS和椭偏仪等手段进行分析，结果表明热处理显著影响薄膜的表面成分和光学性能，为氮化硅薄膜在光学和半导体领域的应用提供了重要参考。
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