会议论文《氢等离子处理衬底上硼掺杂微晶硅薄膜的椭偏光谱分析》发表于第十一届中国光伏大会暨展览会。该文通过椭偏光谱技术研究了氢等离子处理对硼掺杂微晶硅薄膜光学性质的影响，分析了薄膜的折射率、消光系数及厚度等参数，为优化光伏材料性能提供了理论依据和技术支持。
文档为pdf格式，0.31MB，总共6页。
举报
