会议论文《气氛对射频磁控溅射NiFe2O4薄膜性能的影响》探讨了不同气氛下制备的NiFe2O4薄膜的结构与性能关系。研究结果表明，气氛种类显著影响薄膜的结晶质量、表面形貌及磁学特性。该工作为优化NiFe2O4薄膜的制备工艺提供了重要参考，具有一定的学术价值和应用前景。
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