磁控溅射玫瑰金靶材的刻蚀行为

文档摘要：[目的]磁控溅射玫瑰金膜层相比于电镀工艺具有突出的环保优势,但很少有关于磁控溅射靶材刻蚀行为的研究报道.[方法]以Au85玫瑰金制作平面溅射靶材,进行真空磁控溅射镀膜.研究了靶电流、功率密度、磁场布置等对靶材表面刻蚀行为的影响.[结果]靶电流和功率密度较低时辉光稳定,溅射过程平稳;靶材粒子会优先沿着某个晶面逐层溅射出来,形成阶梯状直线条纹;靶材表面形成V形刻蚀沟槽,刻蚀区斜坡与靶面法向夹角为75°～76°.随着靶电流和功率密度的增大,溅射过程偶有弧光放电现象发生,刻蚀区表面形成乳突状显微形貌;靶电流过高时,靶材在短时间内就会出现熔穿.靶座的磁场布置存在端部效应,使刻蚀槽的深度和宽度存在不均匀的现象.[结论]为提高贵金属平面靶的利用率,应改善磁场布置,并将功率密度控制在出现弧光放电的阈值内.

Abstract：[Introduction]Magnetronsputteringofrosegoldfilmhasoutstandingenvironmentaladvantagesoverelectroplating.However,therearefewresearchreportsaboutetchingbehavioroftargetduringmagnetronsputtering.[Method]MagnetronsputteringwasconductedwithaplanartargetmadeofAu85rosegoldundervacuumcondition.Theeffectsoftargetcurrent,powerdensity,andmagneticfieldarrangementontheetchingbehavioroftargetwerestudied.[Result]Theglowandsputteringprocesswerestableatlowtargetcurrentandpowerdensity.Thetargetparticlesweresputteredpreferentiallylayerbylayeralongacrystalsurface,formingsteppedlinearstripes.V-shapedgrooveswereformedontargetsurface,andtheanglebetweentheslopeofetchedareaandthenormaldirectionoftargetsurfacewasabout75°-76°.Withtheincreasingoftargetcurrentorpowerdensity,arcdischargeoccurredoccasionallyduringsputtering,andmastoid-likemicromorphologywasformedontheetchedarea.Thetargetmaterialmeltedinashorttimewhenthetargetcurrentwastoohigh.Thedepthandwidthofetchinggrooveswerenonuniformduetotheendpointeffectcausedbythemagneticfieldarrangementoftargetbase.[Conclusion]Inordertoimprovetheutilizationofplanarpreciousmetaltarget,themagneticfieldlayoutshouldbemodified,andthepowerdensityshouldbecontrolledlowerthanthethresholdofarcdischarge.

作者：袁军平  陈令霞  潘成强  黄宇亨  周翔  林善伟  朱佳宜Author：YUANJunping  CHENLingxia  PANChengqiang  HUANGYuheng  ZHOUXiang  LINShanwei  ZHUJiayi
作者单位：广州番禺职业技术学院珠宝学院,广东广州511483
刊名：电镀与涂饰 ISTICPKU
Journal：Electroplating&Finishing
年，卷(期)：2024, 43(6)
分类号：TQ153.1+8
关键词：磁控溅射  玫瑰金  靶材  刻蚀  微观形貌  
Keywords：magnetronsputtering  rosegold  target  etching  micromorphology  
机标分类号：TG174.444TQ171.6TB383
在线出版日期：2024年7月9日
基金项目：广州市教育局产学研结合项目，广东省教育厅重点领域专项项目磁控溅射玫瑰金靶材的刻蚀行为[
期刊论文]  电镀与涂饰--2024, 43(6)袁军平  陈令霞  潘成强  黄宇亨  周翔  林善伟  朱佳宜[目的]磁控溅射玫瑰金膜层相比于电镀工艺具有突出的环保优势,但很少有关于磁控溅射靶材刻蚀行为的研究报道.[方法]以Au85玫瑰金制作平面溅射靶材,进行真空磁控溅射镀膜.研究了靶电流、功率密度、磁场布置等对靶材表面刻蚀...参考文献和引证文献
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关键词：磁控溅射,玫瑰金,靶材,刻蚀,微观形貌,

2024-10-3 23:42 上传 磁控溅射玫瑰金靶材的刻蚀行为.pdf

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