适用于声表面波器件的高声速ZnO薄膜磁控溅射生长及性能分析 - 2009年全国压电和声波理论及器件技术研讨会暨2009年全国频率控制技术年会.pdf

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2026-1-11 22:06 | 查看全部阅读模式

该会议论文介绍了采用磁控溅射法生长高声速ZnO薄膜的研究，旨在应用于声表面波器件。通过优化工艺参数，获得了具有良好晶体结构和高声速的ZnO薄膜。研究还分析了薄膜的声学性能，验证了其在高频器件中的潜力，为后续声表面波器件的开发提供了理论依据和技术支持。

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