会议论文《磁控溅射膜厚均匀性设计方法》由中国真空学会2009年真空工程学术交流会发表。该文探讨了磁控溅射技术中膜厚均匀性的优化设计方法，分析了影响膜厚分布的关键因素，提出了改进均匀性的工艺参数调整策略。研究对提高薄膜制备质量具有重要参考价值，为相关领域的工程应用提供了理论支持。
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