运用磁控溅射系统制备AlN_-ZrB2多层膜 - 中国工程院化工、冶金与材料工学部第七届学术会议.pdf

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2026-1-11 22:02 | 查看全部 阅读模式

会议论文《运用磁控溅射系统制备AlN-ZrB2多层膜》介绍了通过磁控溅射技术制备AlN-ZrB2多层薄膜的研究。该研究旨在探索这种复合材料的结构与性能,以期在高温、耐磨等应用领域发挥优势。论文详细描述了制备工艺及实验条件,并分析了薄膜的微观结构和物理特性,为新型功能薄膜材料的发展提供了理论依据和技术支持。

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运用磁控溅射系统制备AlN_-ZrB2多层膜 - 中国工程院化工、冶金与材料工学部第七届学术会议
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