会议论文《退火温度对磁控溅射ZnO_Al(ZAO)薄膜性能的影响》探讨了不同退火温度对ZAO薄膜结构和性能的影响。研究结果表明，退火温度显著影响薄膜的结晶质量、表面形貌及电学性能。适当的退火温度可改善薄膜的致密性和导电性，为ZAO薄膜在透明导电材料中的应用提供理论依据。
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