会议论文《负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响》探讨了在多弧离子镀技术中，负偏压对TiN薄膜微观结构及沉积速率的影响。研究结果表明，适当调节负偏压可优化薄膜的致密性和晶体取向，同时显著提高沉积速率。该论文为改善TiN薄膜性能提供了理论依据和技术参考，对相关领域的应用具有重要意义。
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