会议论文《原子层淀积Nb2O5薄膜的光学特性表征》发表于第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议。该文研究了通过原子层沉积技术制备的Nb2O5薄膜的光学性能，分析了其折射率、消光系数及透过率等关键参数。研究结果对优化Nb2O5在光电子器件中的应用具有重要意义，为新型半导体材料的开发提供了理论依据。
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