会议论文《i-Si层厚度对Si_SiC异质结光电特性的影响》探讨了不同i-Si层厚度对Si/SiC异质结光电性能的影响。研究通过实验分析发现,i-Si层厚度变化显著影响载流子迁移率、光吸收效率及器件响应特性。该成果为优化Si/SiC异质结器件设计提供了理论依据和技术支持。
文档为pdf格式,0.38MB,总共3页。
举报