会议论文《a面ZnO薄膜的制备和应力分析》发表于中国电子学会第十六届电子元件学术年会。该文研究了a面取向ZnO薄膜的制备工艺及其内部应力特性，采用磁控溅射法在不同基底上生长薄膜，并通过X射线衍射和拉曼光谱等手段进行表征。研究结果对优化ZnO薄膜性能、提升器件可靠性具有重要意义。
文档为pdf格式，0.27MB，总共5页。
举报
