会议论文《4H-SiC MESFET工艺中的金属掩膜研究》探讨了在4H-SiC MESFET制造过程中金属掩膜的关键作用。文章分析了不同金属材料和工艺参数对器件性能的影响，提出了优化方案以提高器件的可靠性和稳定性。该研究为4H-SiC器件的高性能制造提供了重要参考。
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