会议论文《快速热退火法制备多晶硅薄膜的研究》探讨了利用快速热退火技术制备多晶硅薄膜的工艺方法。该研究针对薄膜的结构和性能进行了详细分析，旨在提高多晶硅薄膜的质量和均匀性。通过优化退火参数，实现了更高效的晶体生长，为半导体器件的制备提供了新思路。
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