廉价衬底上PECVD法制备非晶硅薄膜的工艺研究 - 第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议.pdf

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2026-1-11 17:18 | 查看全部 阅读模式

会议论文《廉价衬底上PECVD法制备非晶硅薄膜的工艺研究》探讨了在低成本衬底上利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术制备非晶硅薄膜的可行性。研究分析了工艺参数对薄膜性能的影响,旨在降低生产成本并提高材料质量,为光伏和半导体器件的广泛应用提供技术支持。

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廉价衬底上PECVD法制备非晶硅薄膜的工艺研究 - 第十六届全国半导体集成电路硅材料学术会议
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