会议论文《常压化学气相沉积法制备二氧化钛薄膜的沉积工艺及薄膜均匀性》探讨了采用常压化学气相沉积（APCVD）技术制备二氧化钛薄膜的工艺参数及其对薄膜均匀性的影响。研究分析了温度、气体流量和反应时间等关键因素，优化了沉积条件，提高了薄膜的质量和一致性。该成果为二氧化钛薄膜在光电、催化等领域的应用提供了理论支持和技术参考。
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