会议论文《含硅碱溶性光敏预聚物的合成》发表于2010年第十一届中国辐射固化年会。该文介绍了新型含硅碱溶性光敏预聚物的合成方法，通过引入硅氧烷结构，提高了材料的碱溶性和光敏性能。研究结果表明，该预聚物在紫外光照射下具有良好的固化效果，适用于高精度光刻工艺。论文对光敏材料的开发与应用提供了理论依据和技术支持。
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