衬底温度和沉积气压对射频磁控溅射制备的Mo薄膜结构特性及电学特性的影响 - 第十四届中国光伏大会暨2014中国国际光伏展览会.pdf

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2026-1-10 08:28 | 查看全部阅读模式

本文研究了衬底温度和沉积气压对射频磁控溅射制备的Mo薄膜结构及电学性能的影响。通过调整工艺参数，分析了薄膜的晶粒尺寸、表面形貌以及电阻率等特性。结果表明，衬底温度和气压显著影响薄膜的结晶质量与导电性能，优化参数可获得具有优良结构和电学特性的Mo薄膜，为光伏器件应用提供了理论依据。

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