本文介绍了在6H-SiC衬底上制备β-FeSi2/6H-SiC异质结的研究。通过特定的沉积和退火工艺,成功实现了β-FeSi2薄膜在6H-SiC上的外延生长。研究分析了异质结的结构与光电特性,为开发新型光电器件提供了理论依据和技术支持。
举报