高特征温度P型掺杂1.3μm五层InAs_GaAs量子点结构激光器 - 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议.pdf

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2026-1-12 19:45 | 查看全部 阅读模式

会议论文《高特征温度P型掺杂1.3μm五层InAs/GaAs量子点结构激光器》介绍了基于InAs/GaAs量子点的1.3μm波段激光器设计与性能研究。通过P型掺杂技术,有效提升了器件的特征温度,改善了高温工作稳定性。该研究采用五层量子点结构,优化了载流子分布与光子限制,为高速光通信应用提供了高性能光源解决方案。

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高特征温度P型掺杂1.3μm五层InAs_GaAs量子点结构激光器 - 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
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